产品名称：钽靶材
牌号：Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
标准：GB/3629-2006
纯度：≥99.95%
状态：退火态（M）或硬态（Y）
尺寸：
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外径（mm）
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厚度（mm）
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表面粗糙度
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平面度
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50~400
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3~50
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32Rms
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≤0.15%
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注：特殊产品需供需双方协商解决。
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成分要求：
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牌号
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元素含量 (质量分数%)
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C
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N
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O
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H
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Fe
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Si
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Ni
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Ti
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Mo
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W
|
Nb
|
Ta
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Ta1
|
0.01
|
0.005
|
0.015
|
0.0015
|
0.005
|
0.005
|
0.002
|
0.002
|
0.01
|
0.01
|
0.05
|
余量
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|
Ta2
|
0.02
|
0.025
|
0.03
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0.005
|
0.03
|
0.02
|
0.005
|
0.005
|
0.03
|
0.04
|
0.1
|
余量
|
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TaNb3
|
0.02
|
0.025
|
0.03
|
0.005
|
0.03
|
0.03
|
0.005
|
0.005
|
0.03
|
0.04
|
1.5~3.5
|
余量
|
|
TaNb20
|
0.02
|
0.025
|
0.03
|
0.005
|
0.03
|
0.03
|
0.005
|
0.005
|
0.02
|
0.04
|
17~23
|
余量
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TaNb40
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0.01
|
0.01
|
0.02
|
0.0015
|
0.01
|
0.005
|
0.01
|
0.01
|
0.02
|
0.05
|
35~42
|
余量
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TaW2.5
|
0.01
|
0.01
|
0.015
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0.0015
|
0.01
|
0.005
|
0.01
|
0.01
|
0.02
|
2.0~3.5
|
0.5
|
余量
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TaW7.5
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0.01
|
0.01
|
0.015
|
0.0015
|
0.01
|
0.005
|
0.01
|
0.01
|
0.02
|
6.5~8.5
|
0.5
|
余量
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TaW10
|
0.01
|
0.01
|
0.015
|
0.0015
|
0.01
|
0.005
|
0.01
|
0.01
|
0.02
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9.0~11
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0.1
|
余量
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应用：钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，
主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.
是重要的薄膜技术用材料。穿甲弹：钽制穿甲弹是导弹的一种，如TOW2B导弹。Ta-10W等合金也可制作穿甲弹。
